研磨套件內(nèi)的研磨球在慣性力的作用下對(duì)物料形成了很大的高頻沖擊力、磨擦力、對(duì)物料進(jìn)行快速細(xì)磨，混合與分散樣品，與介質(zhì)接觸的材質(zhì)均不能給介質(zhì)帶來污染。采用高強(qiáng)度的機(jī)架，不變形，工作性能穩(wěn)定，提高了研磨度。

　　為了抵御溫升的影響，通常采用的方法是低溫預(yù)冷和加緩沖液保護(hù)，低溫預(yù)冷即將樣品預(yù)先放置到低溫環(huán)境中，一般為液氮或超低溫冰箱，液氮預(yù)冷的速度較快，且溫度較低。高通量組織研磨儀可以對(duì)硬性、軟性、彈性等樣品進(jìn)行快速的粉碎和均相化處理，符合理化分析實(shí)驗(yàn)室的要求，配置不同體積、不同材料的研磨罐，可以進(jìn)行干磨、濕磨及冷凍研磨，也可以進(jìn)行細(xì)胞破碎和DNA/RNA提取，在生物醫(yī)藥、農(nóng)業(yè)、食品、檢測等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。

　　研磨平面一般在精磨之后進(jìn)行，手工研磨平面時(shí)，研磨劑涂在研磨平板上，手持工件作直線往復(fù)運(yùn)動(dòng)或“8字形運(yùn)動(dòng)，高通量組織研磨儀研磨一定時(shí)間后，將工件調(diào)轉(zhuǎn)90°-180°，以防工件傾斜。每次用完后，必須要拿下拋光墊，這樣做是為了防止拋光墊損壞，使用后，用熱水清潔一下拋光墊，及時(shí)清理機(jī)座，擦拭清除拋光劑和灰塵，污垢，必須要纏繞在懸掛鉤上，再用濕抹布擦拭一下電源線表面層，如果發(fā)現(xiàn)電源線損壞，要及時(shí)更換，不能再使用。

　　與一般的金相制樣方法來比較，速度快，能夠得到清潔而高質(zhì)量的表面，用正常明場照明看不到劃痕。浸蝕后也看不到有損傷缺陷的標(biāo)志。與顯微切片制樣相比，顯微研磨也可以用于硬度高的材料。